它使用類似於照片印刷的技術，通過曝光將掩模上的精細圖案印刷到矽片上。光刻機的品牌很多，根據技術路線的不同可以分為步進投影和掃描投影光刻機。分辨率通常在7納米到幾微米之間。高端光刻機被稱為世界上最精密的儀器，全球有6543.8+0.2億美元的光刻機。
高端光刻機堪稱現代光學產業之花，其制造難度之大，全球只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要是荷蘭的阿斯麥(鏡頭來自德國)、日本的尼康(高端光刻機，英特爾曾經從它手裏買過尼康)和日本的佳能。
掩模對準器性能指數
光刻機的主要性能指標有:支持襯底的尺寸範圍、分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
分辨率:它是對光刻所能達到的最細線精度的描述。光刻的分辨率受到光源衍射的限制，所以受到光源、光刻系統、光刻膠和工藝的限制。
對準精度:指多層曝光時層間圖案的定位精度。
曝光方式:接觸接近、投影、直寫。
曝光光源波長:分為紫外、深紫外、極紫外區。光源包括汞燈和準分子激光器。
對準系統:高精度對準系統的制造需要近乎完美的精密機械技術，這也是國產光刻機無法企及的技術難點之壹。很多美國德國品牌的光刻機都有專門的專利機械技術設計。
參考以上內容:百度百科-面膜對準器