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- 真空鍍膜離子腐刻原理
真空鍍膜離子腐刻原理
離子腐蝕也可以稱作離子刻蝕,使用高速離子,對樣品表面轟擊,離子和目標物體表面原子碰撞,當能量轉化大於結合能,該原子可能從表面脫離。
高速離子可以是離子槍發射的離子束,離子能量和加速電壓有關;高速離子也可以由氣體電離,能量由電離電壓決定,離子向負極高速撞擊,將負極物體表面腐蝕或刻蝕。
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